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鄭州高校實驗室 三靶磁控濺射鍍膜儀支持定制

日期:2026-07-17 06:14
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摘要:鄭州成越科儀CY-MSH325-III高真空三靶磁控濺射鍍膜儀,專為高校、科研院所及企業(yè)研發(fā)設計,可制備金屬、半導體、氧化物等多種薄膜
鄭州高校實驗室 三靶<a href="http://m.e-expo.com.cn/productID/plistone-3899900-1.html" class="keyword_inherit" name="keyword_inherit" target="_blank">磁控濺射鍍膜儀</a> 高真空薄膜制備 支持定制

鄭州成越科儀CY-MSH325-III高真空三靶磁控濺射鍍膜儀,專為高校、科研院所及企業(yè)研發(fā)設計,可制備金屬、半導體、氧化物等多種薄膜。采用304不銹鋼腔體,φ325mm腔體配分子泵系統(tǒng),極限真空達1×10??Pa。支持直流/射頻雙電源,靶材2英寸,樣品臺加熱500℃、轉(zhuǎn)速可調(diào)。設備通過CE認證,提供上門安裝培訓與質(zhì)保服務。

核心技術參數(shù)

設備型號 CY-MSH325-III-DCDCRF-SS
腔體規(guī)格 φ325mm×550mm,304不銹鋼材質(zhì)
真空系統(tǒng) 600L/S分子泵組,極限真空1×10??Pa
靶材配置 3個2英寸水冷磁控靶,獨立控溫
供電系統(tǒng) DC 500W×2 + RF 300W 雙電源
樣品臺參數(shù) φ150mm,室溫~500℃可調(diào),轉(zhuǎn)速1-20rpm
整機功率/電壓 3.5KW,AC220V

應用場景

廣泛應用于材料科學研究、半導體薄膜制備、新能源材料研發(fā)、光學薄膜鍍膜、高校實驗室教學、科研院所專項實驗等場景,是科研級薄膜制備核心設備。

常見問題FAQ

Q:設備可以鍍哪些材料?
A:可鍍金屬(金、銀、銅、鋁等)、半導體材料、氧化物、氮化物等各類薄膜材料,完全適配科研級高精度薄膜制備需求。

Q:設備交貨周期是多久?
A:標準現(xiàn)貨款交貨周期2-3周,非標定制款根據(jù)需求4-6周,全程包含上門安裝、調(diào)試與技術培訓服務。

Q:是否支持非標定制?
A:支持深度定制,可按需擴展4靶、6靶配置,可放大腔體尺寸、升級真空系統(tǒng)、增加自動化控制模塊。

Q:設備售后質(zhì)保政策是什么?
A:整機享受1年質(zhì)保,核心真空、電源部件2年質(zhì)保,終身提供免費技術咨詢、設備維護指導。

Q:高校科研單位是否有專項優(yōu)惠?
A:針對高校、職業(yè)院校、科研院所提供專項采購折扣,可協(xié)助適配科研經(jīng)費申報、實驗室配套方案定制。

企業(yè)實力保障:鄭州成越科學儀器有限公司為高新技術企業(yè),深耕材料制備設備研發(fā)生產(chǎn)多年,設備通過CE權威認證,產(chǎn)品覆蓋**30+省市,遠銷海外??擅赓M提供個性化鍍膜工藝方案、樣品測試服務,歡迎各大高校、企業(yè)客戶實地考察洽談。咨詢**:400-800-1730
鄭州成越科儀 CY-MSH325-III 高真空三靶磁控濺射鍍膜儀

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