產品分類
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- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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雙靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
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雙靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
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單靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
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單靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
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單靶等離子濺射鍍膜儀（... 本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高...
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全自動加熱旋涂儀勻膠機 可將液態或膠體材料涂覆于硅片、晶體、石英、陶瓷等基材形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制備、聚合物薄膜的溶膠-凝...
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四噴頭超聲波勻膠機旋涂... 四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設備。它解決了傳統勻膠技術在三維、異質集成和昂貴材料應用中的根本...
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全自動勻膠機旋涂儀 全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設備，通過程序化控制基片旋轉速度、加速度和時間，實現液體材料（如光刻膠、...
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光刻膠烤膠機 光刻膠烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
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8英寸晶圓烤膠機 8英寸晶圓烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
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12英寸聚四氟腔體防腐... 本產品為旋涂儀也稱勻膠機，是利用高速旋轉產生的離心力來涂覆膜料的設備。本型號采用工業級大功率伺服電機，可實現更好的穩定性...
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擺臂勻膠機旋涂儀 擺臂勻膠機主要利用離心涂覆原理將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，該工藝在材料研究領域有著廣泛...
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全自動勻膠機旋涂儀 旋涂儀是一種實驗室設備，主要用于制備薄膜材料，其應用范圍包括制備太陽能電池，制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
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12寸防腐勻膠機旋涂儀 12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基...
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亞克力八英寸勻膠機帶蠕... 勻膠機可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法...
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凈化旋涂儀帶加熱臺 凈化型勻膠機廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等，例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時，可用此設備進行各種膠體的表面涂覆...
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1000MM勻膠機旋涂... 勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上，利用離...
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托盤定位勻膠機旋涂儀 勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠...
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PP腔體旋涂儀 旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻膠旋涂、生物介質制備、溶膠-凝膠法制...
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不銹鋼腔體勻膠機 勻膠機是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上，利用離心力使...
