產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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多功能鍍膜儀 多功能鍍膜儀是我公司獨立研發的新型產品，既可進行等離子濺射法鍍膜，也可進行蒸發鍍膜。這款多功能鍍膜儀可以與分子泵或者旋片...
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高真空多弧離子鍍膜儀 CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）...
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實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積...
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多弧離子鍍膜儀 本設備為多弧離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發...
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PLD脈沖激光濺射沉積... PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料
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PLD脈沖激光濺射沉積... 該PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔...
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離子源電子束蒸發鍍膜儀 該電子束蒸發方式鍍膜儀，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其...
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電子束蒸發鍍膜儀 該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理...
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小型粉末PVD包覆系統 小型粉末PVD包覆系統是一款小型粉末包覆系統，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。小型粉末PVD包覆系統粉末在振動樣...
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激光鍍膜設備 激光鍍膜設備系統由真空腔室（主濺射室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算...
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電子束蒸發鍍膜儀 電子束蒸發鍍膜儀系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安...
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ALD原子層沉積系統 原子層沉積（ALD）系統是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設備，具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統通常用于半導體制...
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ALD原子層沉積系統 原子層沉積（ALD）系統是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設備，具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統通常用于半導體制...
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派瑞林真空氣相沉積 派瑞林真空氣相沉積是一種專業的產品，用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環境中使用氣相化學反應來沉積薄膜的先進過程。...
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迷你石墨烯CVD設備 迷你石墨烯CVD設備專為石墨烯生產設計配有高精度質量流量計以及薄膜真空規。迷你石墨烯CVD設備同時設備配有可燃氣體檢測裝...
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1200℃高真空迷你C... 1200℃高真空迷你CVD設備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設備包含一臺三路浮子流量計...
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晶圓級大尺寸二硫化鉬制... 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備包括三溫區管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備通過...
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R-PECVD?真空旋... R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備由旋轉及傾斜機構、單溫區管式爐、等離子發生機構、質量流量計供氣系統、高真空分子...
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雙溫區CVD系統 雙溫區CVD系統由1200℃雙溫區管式爐、雙通道質量流量計和低噪音雙極旋片真空泵組成。雙溫區CVD系統管式爐的兩個溫區分...
