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CY-MSZ194-I I -DCDC-SS桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設備為實驗室真空PVD鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
技術參數：
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產品名稱 |
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ194-I I -DCDC-SS |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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工作溫度 |
RT≦300℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ194mm X250mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
304不銹鋼 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統 |
前級泵 |
雙極旋片泵 |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計 |
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抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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濺射真空 |
DC:0.3Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s |
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電源配置 |
電源數量 |
直流電源兩套 |
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輸出功率 |
500W |
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其他參數 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X900mm |
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