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帶樣品過渡倉磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸4英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為1000W直流電源和500W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，四個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制其他射頻電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規格可選.
設備具有主腔室和過渡艙兩部分，過渡艙配有磁力推桿，兩個艙室之間裝有真空閘板閥；用戶可以在主腔室進行濺射工作的同時，在過渡艙裝填樣品，并進行真空預抽，待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺。這樣的設計能夠減少主腔室抽放真空的次數，不僅能有效節省時間，更能保證更好的本地真空，有效提高鍍膜質量
帶樣品過渡倉磁控濺射鍍膜機可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備高真空環境，整個蒸發過程在高真空環境中進行，確保了蒸發原子或分子直接到達基板，避免了空氣中雜質的污染，提高了薄膜的質量。高真空條件還有助于減少蒸發材料的氧化，進一步提升了薄膜的純度和性能。
技術參數:
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產品名稱 |
帶樣品過渡倉磁控濺射鍍膜機 |
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產品型號 |
CY-MSH500X-III-2DCRF-SS-I-LK |
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輸入電源 |
單相交流 220V、50Hz |
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樣品臺 |
尺寸：直徑 150mm 加熱溫度：室溫～500℃ 旋轉轉速：1~20 轉 / 分鐘可 |
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磁控濺射靶槍 |
配三支兩英寸磁控靶， 靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm 角度可調范圍：-45°~45° |
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高真空腔體 |
腔體材質：304 不銹鋼內壁 尺寸：直徑 500×500mm 觀察窗：直徑 100mm（帶遮光擋板） 開門方式：前開門， 氣缸輔助支撐冷卻方式：水冷 |
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氣路控制系統 |
雙通道質量流量控制器（MFC） 氧氣通道：量程 0~200sccm 氮氣通道：量程 0~200sccm |
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直流電源 |
1000W 1套 |
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射頻電源 |
500W 2 套 |
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樣品傳遞倉（Load Lock） |
腔體*大適配 4 英寸晶圓 |
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真空系統 - 前級泵 |
1 臺雙級旋片真空泵抽氣速率：4 升 / 秒 |
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真空系統 - 分子泵 |
抽氣速率：1200 升 / 秒 |
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真空系統 - 真空計 |
復合真空計 |
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膜厚監測儀 |
通常配CYKY膜厚測量儀 |
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控制系統 |
PLC 全自動控制操作界面 |
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功率 |
5KW |
