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產品名稱：等離子增強化學氣相沉積設備
產品型號：CY-PECVD-240T-SS
產品廠商：成越科儀
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簡單介紹：

化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜

詳情介紹：

化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
主要功能及特點：
PECVD設備利用平板電容式輝光放電原理，將通入沉積室的工藝氣體解離并產生等離子體，被解離的基團在等離子體中重新發生化學反應，由于等離子體存在，促進氣體分子的分解、化合、激發和電離，促進反應活性基團的生成，從而降低沉積溫度，在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據工藝調節等離子體的密度和能量，控制薄膜的生長速率和微結構。
產品參數：

PECVD

產品名稱	桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD
產品型號	CY-PECVD-240T-SS
供電電源	AC220V 50Hz
射頻電源	信號頻率	13.56MHz
射頻電源	功率輸出范圍	0~500W (還可選擇150W, 300W, 1000W等)
工作腔體	加熱溫度	RT-500℃（還可選擇600℃，800℃，1000℃等）
	樣品臺尺寸	Φ100mm（兼容4英寸及以下樣品）
	樣品臺轉速	1-20rpm 可調
	腔體材質	不銹鋼
	觀察窗	Φ60mm, 帶擋板
供氣系統	通道數	3 （可根據需要選擇其他通道數，其他氣體種類，其他測量范圍）
	測量單位	質量流量計
	測量范圍	A 通道: 0～200SCCM for O2
		B通道: 0～200SCCM for N2
		C通道: 0～200SCCM for Ar
真空系統	前級泵抽速	1.1L/s
	分子泵抽速	60L/s
	真空測量	復合真空計
	真空度	10^-4Pa
水冷機	水流速	10L/min
水冷機	冷卻功率	50W/℃

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